共 50 条
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真空処理装置、処理対象物の処理方法、及び成膜装置[ja]
被引：0
申请号：
JP20120515867
申请日：
2011-05-13
公开(公告)号：
JPWO2011145530A1
公开(公告)日：
2013-07-22
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H01L21/31
IPC分类号：
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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