レリーフイメージの形成方法およびそのパターン形成物[ja]

被引：0

申请号：

JP20050506264

申请日：

2004-05-14

公开(公告)号：

JPWO2004101174A1

公开(公告)日：

2006-07-13

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

B05D1/26

IPC分类号：

B05D5/06 B05D7/24 B41J2/01 H01J9/02 H05K3/02 H05K3/10

代理机构：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

パターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019163070A1 ,2021-02-04

[2]

複合酸化物パターンの形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025134377A ,2025-09-17

[3]

金属パターン形成材料、架橋性モノマー、及び金属パターンの形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006080178A1 ,2008-06-19

[4]

導電パターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2014534605A ,2014-12-18

[5]

イメージセンサー及びその製造方法[ja] [P].

RYU JEHYUNG ;

LIM HAJIN ;

JEON JONGMIN ;

JEON TAEKSOO ;

HUR JAESUNG .

日本专利 :JP2024098142A ,2024-07-22

[6]

ローターの被覆方法およびローター[ja] [P].

日本专利 :JP2015509137A ,2015-03-26

[7]

リードフレーム、及びリードフレームパッケージ[ja] [P].

FURUNO RYOTA ;

KUBO KIMIHIKO .

日本专利 :JP2022190003A ,2022-12-22

[8]

金属パターンフィルムおよびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020522407A ,2020-07-30

[9]

パターニングされた酸化物膜の形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025145955A ,2025-10-03

[10]

パターン形成マスク用薄膜層付基体およびパターン化基体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016129225A1 ,2017-11-09

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