共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
パターン形成マスク用薄膜層付基体およびパターン化基体の製造方法[ja]
被引：0
申请号：
JP20160574653
申请日：
2016-01-28
公开(公告)号：
JPWO2016129225A1
公开(公告)日：
2017-11-09
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H01L21/027
IPC分类号：
B29C33/38
B29C59/02
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |