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真空処理装置及び有機薄膜形成方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20120535030
申请日
:
2011-09-20
公开(公告)号
:
JPWO2012039383A1
公开(公告)日
:
2014-02-03
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H05B33/10
IPC分类号
:
C23C14/12
C23C14/24
C23C14/56
H01L51/50
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
有機薄膜形成装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014002842A1
,2016-05-30
[2]
有機薄膜形成方法、有機薄膜形成用補助剤及び有機薄膜形成用溶液[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006009202A1
,2008-05-01
[3]
有機薄膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008059840A1
,2010-03-04
[4]
有機物の処理方法及び処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017014004A1
,2018-04-26
[5]
薄膜形成方法及び薄膜形成装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008050618A1
,2010-02-25
[6]
薄膜形成装置及び薄膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005116293A1
,2008-04-03
[7]
薄膜形成方法及び薄膜形成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6341635B2
,2018-06-13
[8]
薄膜形成方法及び薄膜形成装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008108185A1
,2010-06-10
[9]
薄膜形成方法及び薄膜形成装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013011775A1
,2015-02-23
[10]
薄膜形成装置及び薄膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6896795B2
,2021-06-30
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