真空処理装置及び有機薄膜形成方法[ja]

被引:0
申请号
JP20120535030
申请日
2011-09-20
公开(公告)号
JPWO2012039383A1
公开(公告)日
2014-02-03
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H05B33/10
IPC分类号
C23C14/12 C23C14/24 C23C14/56 H01L51/50
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
有機薄膜形成装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2014002842A1 ,2016-05-30
[3]
有機薄膜形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008059840A1 ,2010-03-04
[4]
有機物の処理方法及び処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017014004A1 ,2018-04-26
[5]
薄膜形成方法及び薄膜形成装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008050618A1 ,2010-02-25
[6]
薄膜形成装置及び薄膜形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2005116293A1 ,2008-04-03
[7]
薄膜形成方法及び薄膜形成装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6341635B2 ,2018-06-13
[8]
薄膜形成方法及び薄膜形成装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008108185A1 ,2010-06-10
[9]
薄膜形成方法及び薄膜形成装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013011775A1 ,2015-02-23
[10]
薄膜形成装置及び薄膜形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6896795B2 ,2021-06-30