有機薄膜形成方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20080544153

申请日：

2007-11-13

公开(公告)号：

JPWO2008059840A1

公开(公告)日：

2010-03-04

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

B05D7/24

IPC分类号：

C09D7/45 C09D183/04 C09D185/00 C09K3/18

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

有機薄膜形成方法、有機薄膜形成用補助剤及び有機薄膜形成用溶液[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006009202A1 ,2008-05-01

[2]

有機半導体薄膜の形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009001816A1 ,2010-08-26

[3]

有機薄膜形成装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014002842A1 ,2016-05-30

[4]

有機薄膜形成用溶液及びそれを用いた有機薄膜形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015146103A1 ,2017-04-13

[5]

真空処理装置及び有機薄膜形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012039383A1 ,2014-02-03

[6]

薄膜形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014196352A1 ,2017-02-23

[7]

薄膜形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2003075335A1 ,2005-06-30

[8]

薄膜形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP7776911B1 ,2025-11-27

[9]

有機薄膜製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016063463A1 ,2017-06-08

[10]

有機膜形成用組成物、有機膜形成方法、及びパターン形成方法[ja] [P].

ARAIDA KEISUKE ;

YAMAMOTO YASUYUKI .

日本专利 :JP2025110317A ,2025-07-28

← 1 2 3 4 5 →