化合物半導体装置、及び化合物半導体装置の製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20160201427
申请日
2016-10-13
公开(公告)号
JP6711233B2
公开(公告)日
2020-06-17
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/338
IPC分类号
H01L21/205 H01L21/28 H01L29/778 H01L29/812
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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