堆積および除去を使用した選択的層形成[ja]

被引：0

申请号：

JP20230031061

申请日：

2023-03-01

公开(公告)号：

JP2023065574A

公开(公告)日：

2023-05-12

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/316

IPC分类号：

C23C16/04 H01L21/31

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

選択的原子層堆積方法[ja] [P].

BHASKAR JYOTI BHUYAN ;

MARK SALY ;

DAVID THOMPSON ;

TOBIN KAUFMAN-OSBORN ;

KURT FREDRICKSON ;

THOMAS KNISLEY ;

WU LIQI .

日本专利 :JP2022091739A ,2022-06-21

[2]

選択的パッシベーションおよび選択的堆積[ja] [P].

JAN WILLEM MAES ;

MICHAEL GIVENS ;

SUVI P HAUKKA ;

VAMS PARUCHURI ;

IVO JOHANNES RAAIJMAKERS ;

DENG SHAOREN ;

ILLIBERI ANDREA ;

EVA E TOIS ;

DELPHINE LONGRIE ;

VILJAMI PORE .

日本专利 :JP2025028880A ,2025-03-05

[3]

選択的堆積の方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023516857A ,2023-04-21

[4]

金属シリサイドの選択的堆積及び酸化物の選択的除去[ja] [P].

日本专利 :JP2022506677A ,2022-01-17

[5]

金属シリサイドの選択的堆積及び酸化物の選択的除去[ja] [P].

日本专利 :JP7503547B2 ,2024-06-20

[6]

アルコールの選択的還元および保護による選択的堆積[ja] [P].

日本专利 :JP2017528597A ,2017-09-28

[7]

光選択透過型ガラスおよび積層基板[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016125792A1 ,2017-12-14

[8]

阻害剤としてグラフェンを使用する選択的堆積[ja] [P].

日本专利 :JP2023531617A ,2023-07-25

[9]

積層造形物および積層造形方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025145128A ,2025-10-03

[10]

酸化物ナノ粒子を混合した積層造形用金属粉末および積層造形体[ja] [P].

日本专利 :JP7780619B2 ,2025-12-04

← 1 2 3 4 5 →