選択的パッシベーションおよび選択的堆積[ja]

被引：0

申请号：

JP20240196026

申请日：

2024-11-08

公开(公告)号：

JP2025028880A

公开(公告)日：

2025-03-05

发明(设计)人：

JAN WILLEM MAES MICHAEL GIVENS SUVI P HAUKKA VAMS PARUCHURI IVO JOHANNES RAAIJMAKERS DENG SHAOREN ILLIBERI ANDREA EVA E TOIS DELPHINE LONGRIE VILJAMI PORE

申请人：

ASM IP HOLDING BV

申请人地址：

IPC主分类号：

C23C16/04

IPC分类号：

C23C16/34 C23C16/40 C23C16/455 H01L21/316 H01L21/318

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

選択的堆積の方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023516857A ,2023-04-21

[2]

アルコールの選択的還元および保護による選択的堆積[ja] [P].

日本专利 :JP2017528597A ,2017-09-28

[3]

金属シリサイドの選択的堆積及び酸化物の選択的除去[ja] [P].

日本专利 :JP2022506677A ,2022-01-17

[4]

金属シリサイドの選択的堆積及び酸化物の選択的除去[ja] [P].

日本专利 :JP7503547B2 ,2024-06-20

[5]

選択的原子層堆積方法[ja] [P].

BHASKAR JYOTI BHUYAN ;

MARK SALY ;

DAVID THOMPSON ;

TOBIN KAUFMAN-OSBORN ;

KURT FREDRICKSON ;

THOMAS KNISLEY ;

WU LIQI .

日本专利 :JP2022091739A ,2022-06-21

[6]

堆積および除去を使用した選択的層形成[ja] [P].

日本专利 :JP2023065574A ,2023-05-12

[7]

モリブデンの選択的堆積方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025524030A ,2025-07-25

[8]

シリコンベース誘電体への選択的堆積のための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020529513A ,2020-10-08

[9]

選択的エッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013136555A1 ,2015-08-03

[10]

パルス化学気相堆積による金属酸化物の選択的堆積[ja] [P].

日本专利 :JP2023521770A ,2023-05-25

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