選択的原子層堆積方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20220015415

申请日：

2022-02-03

公开(公告)号：

JP2022091739A

公开(公告)日：

2022-06-21

发明(设计)人：

BHASKAR JYOTI BHUYAN MARK SALY DAVID THOMPSON TOBIN KAUFMAN-OSBORN KURT FREDRICKSON THOMAS KNISLEY WU LIQI

申请人：

APPLIED MATERIALS INC

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/31

IPC分类号：

C23C16/06 C23C16/40 H01L21/316

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

選択的原子層堆積方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021521639A ,2021-08-26

[2]

原子層堆積方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025525777A ,2025-08-07

[3]

選択的堆積の方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023516857A ,2023-04-21

[4]

モリブデンの選択的堆積方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025524030A ,2025-07-25

[5]

堆積および除去を使用した選択的層形成[ja] [P].

日本专利 :JP2023065574A ,2023-05-12

[6]

電気化学的触媒の原子層堆積[ja] [P].

FRIEDRICH B PRINZ ;

THOMAS FRANCISCO JARAMILLO ;

TANJA GRAF ;

THOMAS SCHLADT ;

GEROLD HUEBNER ;

XU SHICHENG ;

KIM YONGMIN ;

MAHA YUSUF ;

DREW CHRISTOPHER HIGGINS .

日本专利 :JP2022031352A ,2022-02-18

[7]

原子層堆積中の損失防止[ja] [P].

日本专利 :JP2023521755A ,2023-05-25

[8]

選択的パッシベーションおよび選択的堆積[ja] [P].

JAN WILLEM MAES ;

MICHAEL GIVENS ;

SUVI P HAUKKA ;

VAMS PARUCHURI ;

IVO JOHANNES RAAIJMAKERS ;

DENG SHAOREN ;

ILLIBERI ANDREA ;

EVA E TOIS ;

DELPHINE LONGRIE ;

VILJAMI PORE .

日本专利 :JP2025028880A ,2025-03-05

[9]

原子層堆積法による成膜方法[ja] [P].

YAMAUCHI AKIYOSHI ;

MATSUNAGA TAKAYUKI ;

KISHIKAWA YOSUKE ;

HORIGUCHI KAZUTAKA ;

NAKAMURA SHINGO ;

KOSAKA SHIGEHITO ;

SHIMOGAKI YUKIHIRO ;

MOMOSE TAKESHI ;

DEURA MOMOKO ;

SATO NOBORU ;

YAMAGUCHI JUN .

日本专利 :JP2024120193A ,2024-09-05

[10]

原子層堆積法による成膜方法[ja] [P].

日本专利 :JP7541305B1 ,2024-08-28

← 1 2 3 4 5 →