シリコンベース誘電体への選択的堆積のための方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20200503730

申请日：

2018-07-17

公开(公告)号：

JP2020529513A

公开(公告)日：

2020-10-08

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C23C16/04

IPC分类号：

C23C16/02 H01L21/31 H01L21/318

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共 50 条

[1]

誘電体膜の選択的堆積のための方法及び装置[ja] [P].

日本专利 :JP2020515082A ,2020-05-21

[2]

酸化物表面でなくベアシリコンへのポリマー膜の選択的堆積[ja] [P].

日本专利 :JP5992513B2 ,2016-09-14

[3]

選択的堆積の方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023516857A ,2023-04-21

[4]

モリブデンの選択的堆積方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025524030A ,2025-07-25

[5]

誘電体上の酸化物の選択的ＰＥＡＬＤ[ja] [P].

日本专利 :JP2020520126A ,2020-07-02

[6]

誘電体上の酸化物の選択的ＰＥＡＬＤ[ja] [P].

EVA TOIS ;

VILJAMI J PORE ;

SUVI P HAUKKA ;

SUZUKI TOSHIYA ;

JIA LINGYUN ;

KIM SUN JA ;

ORESTE MADIA .

日本专利 :JP2023018059A ,2023-02-07

[7]

誘電体上の酸化物の選択的ＰＥＡＬＤ[ja] [P].

日本专利 :JP7183187B2 ,2022-12-05

[8]

誘電体上の酸化物の選択的ＰＥＡＬＤ[ja] [P].

日本专利 :JP7470173B2 ,2024-04-17

[9]

金属シリサイドの選択的堆積及び酸化物の選択的除去[ja] [P].

日本专利 :JP2022506677A ,2022-01-17

[10]

金属シリサイドの選択的堆積及び酸化物の選択的除去[ja] [P].

日本专利 :JP7503547B2 ,2024-06-20

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