リソグラフィー用リンス液とレジストパターン形成方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20060532656

申请日：

2005-08-29

公开(公告)号：

JPWO2006025303A1

公开(公告)日：

2008-07-31

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/32

IPC分类号：

H01L21/027

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

レジストパターンコーティング剤およびレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010061833A1 ,2012-04-26

[2]

ソルダーレジストパターンの形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012043201A1 ,2014-02-06

[3]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP7058711B1 ,2022-04-22

[4]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020054449A1 ,2021-08-30

[5]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022191182A ,2022-12-27

[6]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022091817A ,2022-06-21

[7]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

TSUCHIYA JUNICHI ;

FUJISAKI MASAFUMI .

日本专利 :JP2022079741A ,2022-05-26

[8]

インプリント用硬化性組成物、離型剤、硬化物、パターン形成方法およびリソグラフィー方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019188882A1 ,2021-02-25

[9]

レジスト用樹脂、ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005016982A1 ,2006-10-12

[10]

ポリアリーレンスルフィドの製造方法、及びポリアリーレンスルフィド[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012070335A1 ,2014-05-19

← 1 2 3 4 5 →