パーティクルの発生の少ないスパッタリングターゲット及び同ターゲットの製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20110518632
申请日
2010-12-06
公开(公告)号
JPWO2011077933A1
公开(公告)日
2013-05-02
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C23C14/34
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
引用
下载
收藏