スパッタリングターゲットの製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20170540657

申请日：

2016-12-13

公开(公告)号：

JPWO2017115648A1

公开(公告)日：

2017-12-28

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C23C14/34

IPC分类号：

B22F3/105 B22F3/16 B22F7/00 C04B35/653

代理机构：

代理人：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020066114A1 ,2021-10-21

[2]

スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020261748A1 ,2021-09-13

[3]

スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット材の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6996019B1 ,2022-01-17

[4]

スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット材の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022165884A ,2022-11-01

[5]

スパッタリングターゲット、およびスパッタリングターゲットの作製方法[ja] [P].

YAMAZAKI SHUNPEI ;

SATO YUICHI ;

ISAKA FUMITO ;

ONO TOSHIKAZU .

日本专利 :JP2024007429A ,2024-01-18

[6]

酸化物スパッタリングターゲット、及び、酸化物スパッタリングターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7028268B2 ,2022-03-02

[7]

酸化物スパッタリングターゲット、及び酸化物スパッタリングターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6414165B2 ,2018-10-31

[8]

スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP6557750B1 ,2019-08-07

[9]

酸化物焼結体、スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7359836B2 ,2023-10-11

[10]

酸化物焼結体、スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7456992B2 ,2024-03-27

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