金属錯体の配位子となる化合物[ja]

被引：0

申请号：

JP20140033709

申请日：

2014-02-25

公开(公告)号：

JP5742983B2

公开(公告)日：

2015-07-01

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07D401/04

IPC分类号：

C07D401/14

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法律状态信息

共 50 条

[1]

配位子及びその錯化合物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2004069786A1 ,2006-05-25

[2]

金属－配位子錯体を作製する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022530356A ,2022-06-29

[3]

錯体化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6386888B2 ,2018-09-05

[4]

遷移金属錯体化合物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007058255A1 ,2009-05-07

[5]

新規化合物、新規配位子、新規遷移金属錯体および新規遷移金属錯体からなる触媒[ja] [P].

日本专利 :JP6011798B2 ,2016-10-19

[6]

有機金属錯体のための補助配位子[ja] [P].

PIERRE-LUC T BOUDREAULT ;

ALEXEY BORISOVICH DYATKIN ;

DAVID ZENAN LI ;

SCOTT JOSEPH ;

XIA CHUANJUN ;

YAMAMOTO HITOSHI ;

MICHAEL S WEAVER ;

BERT ALLEYNE ;

JAMES FIORDELISO .

日本专利 :JP2022116030A ,2022-08-09

[7]

キラル金属錯体化合物[ja] [P].

日本专利 :JP7267932B2 ,2023-05-02

[8]

キラル金属錯体化合物[ja] [P].

日本专利 :JP2020516631A ,2020-06-11

[9]

少なくとも１種の金属元素を錯化することができる新規な化合物およびこれらの化合物をベースとする配位錯体[ja] [P].

日本专利 :JP5855011B2 ,2016-02-09

[10]

新規化合物とその錯体並びに錯体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP5635443B2 ,2014-12-03

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