金属－配位子錯体を作製する方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20210561757

申请日：

2020-04-27

公开(公告)号：

JP2022530356A

公开(公告)日：

2022-06-29

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07F19/00

IPC分类号：

C07F7/00 C07F17/00

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法律状态信息

共 50 条

[1]

ケージ状配位子を有する多核金属錯体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005095408A1 ,2008-02-21

[2]

金属錯体の配位子となる化合物[ja] [P].

日本专利 :JP5742983B2 ,2015-07-01

[3]

配位子及び希土類錯体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015002282A1 ,2017-02-23

[4]

合成胚を作製する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025509296A ,2025-04-11

[5]

配位子、高分子錯体及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015119268A1 ,2017-03-30

[6]

有機金属錯体のための補助配位子[ja] [P].

PIERRE-LUC T BOUDREAULT ;

ALEXEY BORISOVICH DYATKIN ;

DAVID ZENAN LI ;

SCOTT JOSEPH ;

XIA CHUANJUN ;

YAMAMOTO HITOSHI ;

MICHAEL S WEAVER ;

BERT ALLEYNE ;

JAMES FIORDELISO .

日本专利 :JP2022116030A ,2022-08-09

[7]

アザ－ベンゾ縮合配位子を有するイリジウム錯体[ja] [P].

BIN MA ;

XIA CHUANJUN ;

HARVEY WENDT ;

SUMAN LAYEK ;

BEERS SCOTT ;

EDWARD BARRON ;

ALAN DEANGELIS ;

WALTER YEAGER ;

CHEON KWANG-OHK ;

MICHAEL S WEAVER ;

ZENG LICHANG ;

VADIM ADAMOVICH .

日本专利 :JP2022180529A ,2022-12-06

[8]

金属錯体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014129569A1 ,2017-02-02

[9]

ジシロキサンを配位子とする金属錯体および担持金属錯体、その製造方法、並びに、それを用いて調製した担持金属触媒[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014142252A1 ,2017-02-16

[10]

ジヒドロアズレニル配位子を有する貴金属錯体及びその使用[ja] [P].

日本专利 :JP2024506721A ,2024-02-14

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