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真空浸炭処理方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20130116142
申请日
:
2013-05-31
公开(公告)号
:
JP6205854B2
公开(公告)日
:
2017-10-04
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C8/32
IPC分类号
:
C21D1/06
C22C38/00
C22C38/38
C23C8/34
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
真空浸炭処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6135177B2
,2017-05-31
[2]
真空浸炭処理方法および真空浸炭炉[ja]
[P].
KANAYAMA MASAO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
DOWA THERMOTECH KK
DOWA THERMOTECH KK
KANAYAMA MASAO
;
HABUKA SATORU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
DOWA THERMOTECH KK
DOWA THERMOTECH KK
HABUKA SATORU
.
日本专利
:JP2024179845A
,2024-12-26
[3]
真空浸炭処理方法及び浸炭部品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019182140A1
,2020-04-30
[4]
真空浸炭処理方法及び浸炭部品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6583600B1
,2019-10-02
[5]
真空浸炭処理方法及び浸炭部品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7201092B2
,2023-01-10
[6]
真空浸炭方法及び真空浸炭装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6412436B2
,2018-10-24
[7]
真空浸炭装置および真空浸炭方法[ja]
[P].
FUJITA TAKAHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
DOWA THERMOTECH KK
DOWA THERMOTECH KK
FUJITA TAKAHIRO
.
日本专利
:JP2025034910A
,2025-03-13
[8]
真空浸炭装置および真空浸炭方法[ja]
[P].
FUJITA TAKAHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
DOWA THERMOTECH KK
DOWA THERMOTECH KK
FUJITA TAKAHIRO
.
日本专利
:JP2025034918A
,2025-03-13
[9]
真空浸炭装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7766067B2
,2025-11-07
[10]
真空浸炭窒化方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2003050321A1
,2005-04-21
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