真空浸炭装置および真空浸炭方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20230141587

申请日：

2023-08-31

公开(公告)号：

JP2025034910A

公开(公告)日：

2025-03-13

发明(设计)人：

FUJITA TAKAHIRO

申请人：

DOWA THERMOTECH KK

申请人地址：

IPC主分类号：

C23C8/22

IPC分类号：

C21D1/06 C21D1/74

代理机构：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

真空浸炭装置および真空浸炭方法[ja] [P].

FUJITA TAKAHIRO .

日本专利 :JP2025034918A ,2025-03-13

[2]

真空浸炭方法及び真空浸炭装置[ja] [P].

日本专利 :JP6412436B2 ,2018-10-24

[3]

真空浸炭処理方法および真空浸炭炉[ja] [P].

KANAYAMA MASAO ;

HABUKA SATORU .

日本专利 :JP2024179845A ,2024-12-26

[4]

真空浸炭装置[ja] [P].

日本专利 :JP7766067B2 ,2025-11-07

[5]

真空浸炭用鋼及び浸炭部品[ja] [P].

日本专利 :JP6838508B2 ,2021-03-03

[6]

浸炭ガスノズルおよび真空浸炭炉[ja] [P].

日本专利 :JP7236729B2 ,2023-03-10

[7]

真空浸炭処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP6135177B2 ,2017-05-31

[8]

真空浸炭処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP6205854B2 ,2017-10-04

[9]

真空浸炭窒化方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2003050321A1 ,2005-04-21

[10]

真空浸炭処理方法及び浸炭部品の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019182140A1 ,2020-04-30

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