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真空浸炭処理方法および真空浸炭炉[ja]
被引：0
申请号：
JP20230099064
申请日：
2023-06-16
公开(公告)号：
JP2024179845A
公开(公告)日：
2024-12-26
发明(设计)人：
KANAYAMA MASAO
HABUKA SATORU
申请人：
DOWA THERMOTECH KK
申请人地址：
IPC主分类号：
C23C8/22
IPC分类号：
C21D1/06
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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