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環状化合物、環状化合物の製造方法、環状化合物からなるフォトレジスト基材、フォトレジスト組成物、微細加工方法、半導体装置及び装置[ja]
被引：0
申请号：
JP20100505813
申请日：
2009-03-27
公开(公告)号：
JPWO2009119784A1
公开(公告)日：
2011-07-28
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F7/004
IPC分类号：
C07C39/17
C07C43/21
C07C69/712
G03F7/039
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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