置換基を導入した環状化合物の製造方法及びフォトレジスト基材[ja]

被引：0

申请号：

JP20090520647

申请日：

2008-06-27

公开(公告)号：

JPWO2009001927A1

公开(公告)日：

2010-08-26

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07C67/31

IPC分类号：

C07C69/712 G03F7/004 G03F7/039

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共 50 条

[1]

環状化合物、フォトレジスト基材及びフォトレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008153154A1 ,2010-08-26

[2]

環状化合物、環状化合物の製造方法、環状化合物からなるフォトレジスト基材、フォトレジスト組成物、微細加工方法、半導体装置及び装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009119784A1 ,2011-07-28

[3]

環状化合物、フォトレジスト基材、フォトレジスト組成物、微細加工方法及び半導体装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009075308A1 ,2011-04-28

[4]

環状化合物及びそれを用いたフォトレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010067621A1 ,2012-05-17

[5]

フォトレジスト組成物、化合物及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013140969A1 ,2015-08-03

[6]

環状化合物、その製造方法、該環状化合物を含むフォトレジスト組成物及びその製造方法、並びに該組成物を用いたレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017026377A1 ,2018-06-07

[7]

環状化合物、その製造方法、該環状化合物を含むフォトレジスト組成物及びその製造方法、並びに該組成物を用いたレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP6820562B2 ,2021-01-27

[8]

化合物及びフォトレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JP5857522B2 ,2016-02-10

[9]

化合物、該化合物の製造法及び該化合物を含むフォトレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JP5712469B2 ,2015-05-07

[10]

環状ジケトン化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7738514B2 ,2025-09-12

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