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磁気ランダムアクセスメモリ及びその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20080510966
申请日
:
2007-04-11
公开(公告)号
:
JPWO2007119748A1
公开(公告)日
:
2009-08-27
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/8246
IPC分类号
:
H10N50/10
H01F10/16
H01F10/32
H01L27/105
H10N50/01
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
メモリセル及びその製造方法、メモリ及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023535101A
,2023-08-16
[2]
強誘電体ランダムアクセスメモリセル[ja]
[P].
日本专利
:JP2025526121A
,2025-08-07
[3]
トンネル磁気抵抗効果素子及びそれを用いたランダムアクセスメモリ[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013069091A1
,2015-04-02
[4]
形成工程不要の抵抗変化型ランダムアクセスメモリ(RRAM)素子[ja]
[P].
日本专利
:JP2025522122A
,2025-07-10
[5]
磁気抵抗ランダムアクセスメモリデバイスのための反応性直列抵抗低減[ja]
[P].
日本专利
:JP2025539780A
,2025-12-09
[6]
ガラスセラミックス、その製造方法及びその利用[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011105547A1
,2013-06-20
[7]
磁気センサの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011033981A1
,2013-02-14
[8]
メモリスタ素子およびその製造の方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018538701A
,2018-12-27
[9]
メモリ素子の製造装置及び製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012070551A1
,2014-05-19
[10]
磁気コアおよびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2016502765A
,2016-01-28
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