反射型フォトマスクブランク及び反射型フォトマスク[ja]

被引：0

申请号：

JP20200556045

申请日：

2019-11-01

公开(公告)号：

JPWO2020100632A1

公开(公告)日：

2021-05-20

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F1/24

IPC分类号：

C23C14/06 G03F1/54

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法律状态信息

共 50 条

[1]

フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及びフォトマスク[ja] [P].

MATSUHASHI NAOKI .

日本专利 :JP2023065616A ,2023-05-12

[2]

フォトマスクブランク、フォトマスク及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010038444A1 ,2012-03-01

[3]

反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法[ja] [P].

HANEGAWA HIROSHI ;

HITSUYA TAIGA ;

ONO YUSUKE ;

TAKI SHUNYA .

日本专利 :JP2024120111A ,2024-09-03

[4]

反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P].

SEI RYOSUKE .

日本专利 :JP2025037417A ,2025-03-18

[5]

反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P].

AKAGI DAIJIRO ;

OKATO TAKESHI ;

SASAKI KENICHI ;

ISHIKAWA ICHIRO ;

SUZUKI NORIYUKI .

日本专利 :JP2024135499A ,2024-10-04

[6]

反射型マスクブランク、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスク、反射型マスクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7367901B1 ,2023-10-24

[7]

反射型マスクブランク、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスク、反射型マスクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7697609B1 ,2025-06-24

[8]

反射型マスクブランク、反射型マスクおよび反射型マスクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025146050A ,2025-10-03

[9]

反射型マスクブランク、反射型マスクおよび反射型マスクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025146082A ,2025-10-03

[10]

反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法[ja] [P].

TAKASAKA TAKURO ;

INAZUKI SADAOMI ;

OGOSE TAIGA .

日本专利 :JP2025073748A ,2025-05-13

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