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反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20230184787
申请日：
2023-10-27
公开(公告)号：
JP2025073748A
公开(公告)日：
2025-05-13
发明(设计)人：
TAKASAKA TAKURO INAZUKI SADAOMI OGOSE TAIGA
申请人：
SHINETSU CHEMICAL CO
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F1/24
IPC分类号：
G03F1/54 G03F1/84
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
SEI RYOSUKE .
日本专利 :JP2025037417A ,2025-03-18
[2]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
AKAGI DAIJIRO ;
OKATO TAKESHI ;
SASAKI KENICHI ;
ISHIKAWA ICHIRO ;
SUZUKI NORIYUKI .
日本专利 :JP2024135499A ,2024-10-04
[3]
反射型マスクブランク、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスク、反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7367901B1 ,2023-10-24
[4]
反射型マスクブランク、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスク、反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7697609B1 ,2025-06-24
[5]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
HANEGAWA HIROSHI ;
HITSUYA TAIGA ;
ONO YUSUKE ;
TAKI SHUNYA .
日本专利 :JP2024120111A ,2024-09-03
[6]
反射型マスクブランク、反射型マスクおよび反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025146050A ,2025-10-03
[7]
反射型マスクブランク、反射型マスクおよび反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025146082A ,2025-10-03
[8]
反射型フォトマスクブランク及び反射型フォトマスク[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020100632A1 ,2021-05-20
[9]
反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7459399B1 ,2024-04-01
[10]
反射型マスクブランク、反射型マスク、導電膜付き基板、及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
SHOKI TSUTOMU ;
IKEBE YOHEI ;
NAKAGAWA MASANORI .
日本专利 :JP2025105890A ,2025-07-10
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