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キャリアプレートおよび円盤状基板の製造方法、円盤状基板の両面加工装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20120137764
申请日
:
2012-06-19
公开(公告)号
:
JP5613723B2
公开(公告)日
:
2014-10-29
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G11B5/84
IPC分类号
:
B24B37/08
B24B37/28
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
円盤状基板の製造方法、及び円盤状基板の製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2025154327A
,2025-10-10
[2]
円盤状基板の製造方法、及び円盤状基板の製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7601276B1
,2024-12-17
[3]
位置決め方法、円盤状基板の製造方法、位置決め装置、及び円盤状基板の製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2025154326A
,2025-10-10
[4]
位置決め方法、円盤状基板の製造方法、位置決め装置、及び円盤状基板の製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7601275B1
,2024-12-17
[5]
レーザ加工装置、基板の加工方法及び基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6185764B2
,2017-08-23
[6]
加工樹脂基板の製造方法およびレーザー加工装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6671145B2
,2020-03-25
[7]
非円形孔の加工方法、非円形孔の加工装置およびレンズ[ja]
[P].
日本专利
:JP6533071B2
,2019-06-19
[8]
円筒状ワークの加工方法および加工装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6445257B2
,2018-12-26
[9]
レーザ加工基板の製造方法、及びレーザ加工装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5944265B2
,2016-07-05
[10]
キャリアテープの加工装置及び加工方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2004000530A1
,2005-10-20
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