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酸化物焼結体、スパッタリングターゲットおよび酸化物薄膜[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190562164
申请日
:
2018-12-27
公开(公告)号
:
JPWO2019131876A1
公开(公告)日
:
2020-12-10
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
C04B35/01
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
酸化物焼結体、スパッタリングターゲットおよび酸化物薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JP7269886B2
,2023-05-09
[2]
酸化物焼結体、酸化物スパッタリングターゲット及び酸化物薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JP6023920B1
,2016-11-09
[3]
酸化物焼結体、酸化物スパッタリングターゲット及び酸化物薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016136855A1
,2017-04-27
[4]
酸化物焼結体、スパッタリングターゲット及び酸化物薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JP5735190B1
,2015-06-17
[5]
酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019031105A1
,2020-07-09
[6]
酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP5750065B2
,2015-07-15
[7]
酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP5883368B2
,2016-03-15
[8]
酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP7086080B2
,2022-06-17
[9]
酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP5750063B2
,2015-07-15
[10]
酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP7282766B2
,2023-05-29
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