酸化物焼結体、酸化物スパッタリングターゲット及び酸化物薄膜[ja]

被引:0
申请号
JP20160537578
申请日
2016-02-25
公开(公告)号
JPWO2016136855A1
公开(公告)日
2017-04-27
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C04B35/00
IPC分类号
C04B35/453 C23C14/08 C23C14/34
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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