酸化物焼結体、スパッタリングターゲット及び酸化物薄膜[ja]

被引:0
申请号
JP20150010453
申请日
2015-01-22
公开(公告)号
JP5735190B1
公开(公告)日
2015-06-17
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C04B35/453
IPC分类号
C04B35/00 C23C14/08 C23C14/34
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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