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酸化物焼結体、スパッタリングターゲット及び酸化物薄膜[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150010453
申请日
:
2015-01-22
公开(公告)号
:
JP5735190B1
公开(公告)日
:
2015-06-17
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C04B35/453
IPC分类号
:
C04B35/00
C23C14/08
C23C14/34
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
酸化物焼結体、酸化物スパッタリングターゲット及び酸化物薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JP6023920B1
,2016-11-09
[2]
酸化物焼結体、酸化物スパッタリングターゲット及び酸化物薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016136855A1
,2017-04-27
[3]
酸化物焼結体、スパッタリングターゲットおよび酸化物薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JP7269886B2
,2023-05-09
[4]
酸化物焼結体、スパッタリングターゲットおよび酸化物薄膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019131876A1
,2020-12-10
[5]
酸化物焼結体及びスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010032422A1
,2012-02-02
[6]
酸化物焼結体及びスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6582698B2
,2019-10-02
[7]
酸化物焼結体及びスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017217529A1
,2019-04-04
[8]
酸化物焼結体及びスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP5759530B2
,2015-08-05
[9]
酸化物焼結体及びスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6326560B1
,2018-05-16
[10]
酸化物焼結体及びスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6158129B2
,2017-07-05
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