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レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20220007862
申请日
:
2022-01-21
公开(公告)号
:
JP2022048236A
公开(公告)日
:
2022-03-25
发明(设计)人
:
MASUYAMA TATSURO
ICHIKAWA KOJI
申请人
:
SUMITOMO CHEMICAL CO
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/038
IPC分类号
:
G03F7/004
G03F7/039
G03F7/20
G03F7/32
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[21]
フルベストラント組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2018530597A
,2018-10-18
[22]
ネガ型感光性樹脂組成物及びその製造方法、並びに硬化レリーフパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019107250A1
,2020-07-27
[23]
ネガ型感光性樹脂組成物及びその製造方法、並びに硬化レリーフパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022173316A
,2022-11-18
[24]
スチレン系樹脂組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP6942234B1
,2021-09-29
[25]
ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物及び成形品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7491486B1
,2024-05-28
[26]
芳香族炭化水素樹脂、リソグラフィー用下層膜形成組成物及び多層レジストパターンの形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012090408A1
,2014-06-05
[27]
組成物、組成物の製造方法、塗布膜、有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018173729A1
,2020-02-06
[28]
アスファルト用途向け再生組成物及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018507969A
,2018-03-22
[29]
導電性ペースト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014073530A1
,2016-09-08
[30]
キット、インプリント用下層膜形成組成物、パターン形成方法、半導体デバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019159916A1
,2021-02-12
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