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プラズマ誘起浄水のための方法及び装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210530996
申请日
:
2019-11-26
公开(公告)号
:
JP2022509280A
公开(公告)日
:
2022-01-20
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C02F1/48
IPC分类号
:
H05H1/24
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
プラズマ誘起水分解のための方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2021502898A
,2021-02-04
[2]
プラズマベースの浄化のためのシステム及び方法[ja]
[P].
STEPHEN B CRONIN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV SOUTHERN CALIFORNIA
UNIV SOUTHERN CALIFORNIA
STEPHEN B CRONIN
;
TOM HUISKAMP
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV SOUTHERN CALIFORNIA
UNIV SOUTHERN CALIFORNIA
TOM HUISKAMP
;
ALEC NYSTROM
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV SOUTHERN CALIFORNIA
UNIV SOUTHERN CALIFORNIA
ALEC NYSTROM
;
WILLIAM SCHROEDER
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV SOUTHERN CALIFORNIA
UNIV SOUTHERN CALIFORNIA
WILLIAM SCHROEDER
;
SRIRAM SUBRAMANIAN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV SOUTHERN CALIFORNIA
UNIV SOUTHERN CALIFORNIA
SRIRAM SUBRAMANIAN
.
日本专利
:JP2025063060A
,2025-04-15
[3]
プラズマ誘起蒸散法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015535883A
,2015-12-17
[4]
プラズマの生成に使用するための方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2023506866A
,2023-02-20
[5]
誘導結合プラズマのための反復的コイル[ja]
[P].
日本专利
:JP2022516752A
,2022-03-02
[6]
プラズマCVM加工方法及びその装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7648226B1
,2025-03-18
[7]
原子層の容量結合プラズマ堆積のための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025515937A
,2025-05-20
[8]
プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018074322A1
,2019-08-08
[9]
プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の運転方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6935599B1
,2021-09-15
[10]
プラズマ着火方法及びプラズマ生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020225920A1
,2021-05-20
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