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プラズマ誘起水分解のための方法および装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200545442
申请日
:
2018-11-15
公开(公告)号
:
JP2021502898A
公开(公告)日
:
2021-02-04
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B01J19/08
IPC分类号
:
B01D53/047
B01D53/22
C01B3/04
H05H1/24
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
プラズマ誘起浄水のための方法及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2022509280A
,2022-01-20
[2]
プラズマの生成に使用するための方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2023506866A
,2023-02-20
[3]
手の乾燥およびプラズマに基づく消毒のための方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2018536459A
,2018-12-13
[4]
基板処理チャンバ中の誘導結合プラズマおよび容量結合プラズマのための高周波源[ja]
[P].
日本专利
:JP2025512742A
,2025-04-22
[5]
プラズマCVD装置、および、プラズマCVD法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020175152A1
,2021-03-11
[6]
プラズマ処理装置およびプラズマ生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010082327A1
,2012-06-28
[7]
プラズマ生成装置およびプラズマ処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009142016A1
,2011-09-29
[8]
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013124906A1
,2015-05-21
[9]
プラズマ処理装置、およびプラズマ処理方法[ja]
[P].
ICHIKAWA TAKAHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HITACHI HIGH TECH CORP
ICHIKAWA TAKAHIRO
;
HIRONAKA YOSHIYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HITACHI HIGH TECH CORP
HIRONAKA YOSHIYUKI
;
OGOSHI YASUO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HITACHI HIGH TECH CORP
OGOSHI YASUO
.
日本专利
:JP2022177082A
,2022-11-30
[10]
プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2025172109A
,2025-11-20
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