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原子層の容量結合プラズマ堆積のための方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240568369
申请日
:
2023-05-15
公开(公告)号
:
JP2025515937A
公开(公告)日
:
2025-05-20
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C16/455
IPC分类号
:
C23C16/509
H05H1/46
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
基板処理チャンバ中の誘導結合プラズマおよび容量結合プラズマのための高周波源[ja]
[P].
日本专利
:JP2025512742A
,2025-04-22
[2]
誘導結合プラズマのための反復的コイル[ja]
[P].
日本专利
:JP2022516752A
,2022-03-02
[3]
プラズマ誘起浄水のための方法及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2022509280A
,2022-01-20
[4]
プラズマ誘起水分解のための方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2021502898A
,2021-02-04
[5]
変調プラズマシステムのためのプラズマ送達システム[ja]
[P].
日本专利
:JP2022514377A
,2022-02-10
[6]
プラズマの生成に使用するための方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2023506866A
,2023-02-20
[7]
プラズマ処理設備のためのアーク抑制装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2022540568A
,2022-09-16
[8]
手の乾燥およびプラズマに基づく消毒のための方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2018536459A
,2018-12-13
[9]
半導体ウエハ製造のためのマッチレスプラズマ源[ja]
[P].
日本专利
:JP2021500701A
,2021-01-07
[10]
半導体ウエハ製造のためのマッチレスプラズマ源[ja]
[P].
日本专利
:JP2023027382A
,2023-03-01
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