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半導体構造物をエッチングするための窒素含有化合物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180505026
申请日
:
2016-08-30
公开(公告)号
:
JP2018529225A
公开(公告)日
:
2018-10-04
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/3065
IPC分类号
:
H10B12/00
H10B69/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
半導体構造エッチング用ヨウ素含有化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP2023053121A
,2023-04-12
[2]
半導体構造エッチング用ヨウ素含有化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP7470834B2
,2024-04-18
[3]
半導体構造エッチング用ヨウ素含有化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP2020515047A
,2020-05-21
[4]
半導体構造エッチング用ヨウ素含有化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP7227135B2
,2023-02-21
[5]
半導体構造物上に窒素含有化合物を堆積させる方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7079872B2
,2022-06-02
[6]
化合物材料を乾式エッチングするための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022535212A
,2022-08-05
[7]
化合物材料を乾式エッチングするための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7549437B2
,2024-09-11
[8]
半導体構造をエッチングするための酸素とヨウ素とを含有するハイドロフルオロカーボン化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP2024545182A
,2024-12-05
[9]
エッチングガスを用いて半導体構造をエッチングする方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2016529740A
,2016-09-23
[10]
廃水中の窒素含有化合物を酸化分解するための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017512134A
,2017-05-18
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