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半導体装置およびその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160561535
申请日
:
2015-11-19
公开(公告)号
:
JPWO2016084698A1
公开(公告)日
:
2017-09-07
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L29/786
IPC分类号
:
H01L21/28
H01L21/336
H01L21/768
H01L29/417
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018061969A1
,2019-07-11
[2]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012090794A1
,2014-06-05
[3]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011111781A1
,2013-06-27
[4]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011033665A1
,2013-02-07
[5]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011070981A1
,2013-04-22
[6]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008114423A1
,2010-07-01
[7]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016084688A1
,2017-08-31
[8]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011043300A1
,2013-03-04
[9]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017081922A1
,2018-08-23
[10]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015052991A1
,2017-03-09
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