半導体装置およびその製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20160561535
申请日
2015-11-19
公开(公告)号
JPWO2016084698A1
公开(公告)日
2017-09-07
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L29/786
IPC分类号
H01L21/28 H01L21/336 H01L21/768 H01L29/417
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
半導体装置およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018061969A1 ,2019-07-11
[2]
半導体装置およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2012090794A1 ,2014-06-05
[3]
半導体装置およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2011111781A1 ,2013-06-27
[4]
半導体装置およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2011033665A1 ,2013-02-07
[5]
半導体装置およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2011070981A1 ,2013-04-22
[6]
半導体装置およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008114423A1 ,2010-07-01
[7]
半導体装置およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016084688A1 ,2017-08-31
[8]
半導体装置およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2011043300A1 ,2013-03-04
[9]
半導体装置およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017081922A1 ,2018-08-23
[10]
半導体装置およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015052991A1 ,2017-03-09