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半導体装置およびその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20120504516
申请日
:
2011-03-10
公开(公告)号
:
JPWO2011111781A1
公开(公告)日
:
2013-06-27
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L29/786
IPC分类号
:
H01L21/3065
H01L21/316
H01L21/336
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011033665A1
,2013-02-07
[2]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018061969A1
,2019-07-11
[3]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012090794A1
,2014-06-05
[4]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016084698A1
,2017-09-07
[5]
化合物半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008041277A1
,2010-01-28
[6]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014009996A1
,2016-06-20
[7]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011070981A1
,2013-04-22
[8]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008114423A1
,2010-07-01
[9]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016084688A1
,2017-08-31
[10]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011043300A1
,2013-03-04
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