半導体デバイスを処理するための方法および構造[ja]

被引:0
申请号
JP20160530849
申请日
2014-07-21
公开(公告)号
JP2016535450A
公开(公告)日
2016-11-10
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/02
IPC分类号
H01L21/301 H01L21/683
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[3]
半導体デバイス用処理液、基板の処理方法、及び半導体デバイスの製造方法[ja] [P]. 
KIMURA KENTA .
日本专利 :JP2024179575A ,2024-12-26
[8]
半導体デバイスの製造方法及び基板処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008010546A1 ,2009-12-17