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新規なシリルシクロジシラザン化合物およびこれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja]
被引：0
申请号：
JP20220511326
申请日：
2020-08-13
公开(公告)号：
JP2022545479A
公开(公告)日：
2022-10-27
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
C07F7/21
IPC分类号：
C23C16/18
C23C16/42
H01L21/205
H01L21/31
H01L21/316
H01L21/318
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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