学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审

シリコン化合物およびこれを用いるシリコン含有薄膜の製造方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20250040933
申请日：
2025-03-14
公开(公告)号：
JP2025141947A
公开(公告)日：
2025-09-29
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
C07F7/12
IPC分类号：
C23C16/42 H01L21/314
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
シクロシラザン化合物およびこれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025141946A ,2025-09-29
[2]
シリコン前駆体およびこれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2021509765A ,2021-04-01
[3]
シリコン含有薄膜形成用シリコン含有化合物、及びシリコン含有薄膜の形成方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7156999B2 ,2022-10-19
[4]
シリコン含有薄膜蒸着用組成物およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2021504949A ,2021-02-15
[5]
シリコン含有薄膜蒸着用組成物およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020516062A ,2020-05-28
[6]
ジシリルアミン化合物を含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020517825A ,2020-06-18
[7]
ジシリルアミン化合物を含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7025447B2 ,2022-02-24
[8]
シリルアミン化合物、それを含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020515573A ,2020-05-28
[9]
シリルアミン化合物、それを含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6900503B2 ,2021-07-07
[10]
アミノアルコキシジシラザン化合物、それを含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P]. 
RYU JIHO ;
SON SEUNG ;
CHO JUN-HEE ;
PARK GUN JOO ;
KIM SUNG GI ;
CHO YU JIN ;
LIM HAENG DON .
日本专利 :JP2025092454A ,2025-06-19
12345