活性ガス生成装置及び成膜処理装置[ja]

被引:0
申请号
JP20180524612
申请日
2016-06-28
公开(公告)号
JP6542475B2
公开(公告)日
2019-07-10
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C23C16/505
IPC分类号
H01L21/31 H05H1/24
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
活性ガス生成装置及び成膜処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020003344A1 ,2021-02-15
[2]
活性ガス生成装置及び成膜処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018003002A1 ,2018-12-06
[3]
活性ガス生成装置及び成膜処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019138453A1 ,2020-04-02
[4]
活性ガス生成装置及び成膜処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017126007A1 ,2018-06-07
[5]
活性ガス生成装置及び成膜処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6719856B2 ,2020-07-08
[6]
活性ガス生成装置及び成膜処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6440871B2 ,2018-12-19
[7]
活性ガス生成装置及び成膜処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7019276B2 ,2022-02-15
[8]
ガス処理方法及びガス処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020067181A1 ,2021-01-07
[9]
ガス処理方法及びガス処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6680960B1 ,2020-04-15
[10]
活性ガス生成装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6474943B2 ,2019-02-27