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活性ガス生成装置及び成膜処理装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20170562178
申请日
:
2016-01-18
公开(公告)号
:
JP6440871B2
公开(公告)日
:
2018-12-19
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H05H1/24
IPC分类号
:
C23C16/452
C23C16/505
H05H1/30
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
活性ガス生成装置及び成膜処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020003344A1
,2021-02-15
[2]
活性ガス生成装置及び成膜処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6542475B2
,2019-07-10
[3]
活性ガス生成装置及び成膜処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018003002A1
,2018-12-06
[4]
活性ガス生成装置及び成膜処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019138453A1
,2020-04-02
[5]
活性ガス生成装置及び成膜処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017126007A1
,2018-06-07
[6]
活性ガス生成装置及び成膜処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6719856B2
,2020-07-08
[7]
活性ガス生成装置及び成膜処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7019276B2
,2022-02-15
[8]
ガス処理方法及びガス処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020067181A1
,2021-01-07
[9]
ガス処理方法及びガス処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6680960B1
,2020-04-15
[10]
活性ガス生成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6474943B2
,2019-02-27
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