過酸化物含有水の処理方法及び処理装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20110120751

申请日：

2011-05-30

公开(公告)号：

JP5779408B2

公开(公告)日：

2015-09-16

发明(设计)人：

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IPC主分类号：

C02F1/58

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共 50 条

[41]

金属酸化物粉末の薬剤処理方法及び製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6792682B1 ,2020-11-25

[42]

表面処理金属酸化物粒子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7275939B2 ,2023-05-18

[43]

酸化物を含む材料の保存処理装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014077377A1 ,2017-01-05

[44]

酸化物を含む材料の保存処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP6406756B2 ,2018-10-17

[45]

遷移金属の半導体の処理方法、および遷移金属酸化物の還元剤含有処理液[ja] [P].

日本专利 :JP7342288B2 ,2023-09-11

[46]

液体処理装置及び層状複水酸化物の交換方法[ja] [P].

TATEWAKI MASAHIRO ;

LIU ZHAOTAO .

日本专利 :JP2024100249A ,2024-07-26

[47]

基板処理装置及び金属酸化物半導体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025502930A ,2025-01-30

[48]

基板の処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP7656139B1 ,2025-04-02

[49]

排ガスの処理システム及び処理方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015041102A1 ,2017-03-02

[50]

被処理ガス中の可燃成分の酸化触媒、被処理ガス中の可燃成分の酸化触媒の製造方法、被処理ガス中の可燃成分の酸化方法、及び、被処理ガス中の窒素酸化物の除去方法[ja] [P].

日本专利 :JP6496932B2 ,2019-04-10

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