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高分子膜形成装置、高分子膜形成方法およびセパレータの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180550848
申请日
:
2018-08-29
公开(公告)号
:
JPWO2019044918A1
公开(公告)日
:
2020-08-13
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B05C5/02
IPC分类号
:
B05C9/04
B05D1/26
H01M50/443
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高分子膜の製造方法および高分子膜[ja]
[P].
日本专利
:JP5814074B2
,2015-11-17
[2]
高分子および高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018135139A1
,2019-11-07
[3]
高分子膜形成装置、高分子膜形成方法及隔膜的制造方法
[P].
木下英树
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
木下英树
;
佐久间勇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
佐久间勇
;
守屋豪
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
守屋豪
.
中国专利
:CN110831705A
,2020-02-21
[4]
合成高分子膜および合成高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6751731B2
,2020-09-09
[5]
高分子膜の製造方法および高分子膜製造用電解重合装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5954558B2
,2016-07-20
[6]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020500974A
,2020-01-16
[7]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7113194B2
,2022-08-05
[8]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6947359B2
,2021-10-13
[9]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6689076B2
,2020-04-28
[10]
高分子薄膜、高分子積層膜の製造方法、その製造方法で製造された高分子薄膜、および高分子積層膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012070658A1
,2014-05-19
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