高分子膜形成装置、高分子膜形成方法およびセパレータの製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20180550848
申请日
2018-08-29
公开(公告)号
JPWO2019044918A1
公开(公告)日
2020-08-13
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
B05C5/02
IPC分类号
B05C9/04 B05D1/26 H01M50/443
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
高分子膜の製造方法および高分子膜[ja] [P]. 
日本专利 :JP5814074B2 ,2015-11-17
[2]
高分子および高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018135139A1 ,2019-11-07
[3]
高分子膜形成装置、高分子膜形成方法及隔膜的制造方法 [P]. 
木下英树 ;
佐久间勇 ;
守屋豪 .
中国专利 :CN110831705A ,2020-02-21
[4]
合成高分子膜および合成高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6751731B2 ,2020-09-09
[6]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020500974A ,2020-01-16
[7]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7113194B2 ,2022-08-05
[8]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6947359B2 ,2021-10-13
[9]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6689076B2 ,2020-04-28