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半導体製造装置用部材の製造方法および半導体製造装置用部材[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200527644
申请日
:
2019-06-27
公开(公告)号
:
JPWO2020004564A1
公开(公告)日
:
2021-07-15
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C04B37/02
IPC分类号
:
H01L21/683
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
半導体装置の製造方法および半導体装置[ja]
[P].
MINAMI KAZUHIKO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RESONAC HOLDINGS CORP
RESONAC HOLDINGS CORP
MINAMI KAZUHIKO
;
HIRANO TOMOYA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RESONAC HOLDINGS CORP
RESONAC HOLDINGS CORP
HIRANO TOMOYA
;
NAKAKO TAKEO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RESONAC HOLDINGS CORP
RESONAC HOLDINGS CORP
NAKAKO TAKEO
;
ISHIKAWA MASARU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RESONAC HOLDINGS CORP
RESONAC HOLDINGS CORP
ISHIKAWA MASARU
.
日本专利
:JP2024055418A
,2024-04-18
[2]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7761181B1
,2025-10-28
[3]
半導体装置の製造方法及び半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013168314A1
,2015-12-24
[4]
半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017135094A1
,2018-02-08
[5]
半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018159115A1
,2019-12-19
[6]
半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018193554A1
,2019-06-27
[7]
半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7622909B1
,2025-01-28
[8]
半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6396598B1
,2018-09-26
[9]
半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6235190B1
,2017-11-22
[10]
半導体薄膜、半導体薄膜の製造方法、および、半導体素子[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008139860A1
,2010-07-29
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