半導体装置の製造方法および半導体装置[ja]

被引:0
申请号
JP20220162340
申请日
2022-10-07
公开(公告)号
JP2024055418A
公开(公告)日
2024-04-18
发明(设计)人
MINAMI KAZUHIKO HIRANO TOMOYA NAKAKO TAKEO ISHIKAWA MASARU
申请人
RESONAC HOLDINGS CORP
申请人地址
IPC主分类号
H01L23/40
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7761181B1 ,2025-10-28
[2]
半導体装置およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010029819A1 ,2012-02-02
[3]
半導体装置およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013136896A1 ,2015-08-03
[4]
半導体装置およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2016035625A1 ,2017-06-15
[5]
半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7622909B1 ,2025-01-28
[7]
基板処理方法および半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2023017883A ,2023-02-07
[8]
接合構造体、半導体パッケージおよび半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019082602A1 ,2020-11-12
[9]
半導体装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2012165416A1 ,2015-02-23
[10]
半導体装置[ja] [P]. 
TAMARI KEN ;
SAKURAI DAISUKE ;
KUMAKAWA TAKAHIRO .
日本专利 :JP2023179100A ,2023-12-19