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ダイヤモンド基板及びダイヤモンド基板の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20170532561
申请日
:
2016-07-29
公开(公告)号
:
JPWO2017022647A1
公开(公告)日
:
2018-05-31
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C30B29/04
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
ダイヤモンド基板及びダイヤモンド基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015190427A1
,2017-04-20
[2]
ダイヤモンド基板及びダイヤモンド基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015119067A1
,2017-03-23
[3]
ダイヤモンド基板及びダイヤモンド基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015046294A1
,2017-03-09
[4]
ダイヤモンド製膜用下地基板及びそれを用いたダイヤモンド基板の製造方法[ja]
[P].
NOGUCHI HITOSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
NOGUCHI HITOSHI
;
MAKINO TOSHIHARU
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
MAKINO TOSHIHARU
;
OGURA MASAHIKO
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0
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0
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0
机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
OGURA MASAHIKO
;
KATO HIROMITSU
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
KATO HIROMITSU
;
KAWASHIMA HIROYUKI
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
KAWASHIMA HIROYUKI
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
YAMAZAKI SATOSHI
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
TOKUDA NORIO
.
日本专利
:JP2022109306A
,2022-07-27
[5]
ダイヤモンド製膜用下地基板及びそれを用いたダイヤモンド基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7078947B2
,2022-06-01
[6]
ダイヤモンド製膜用下地基板及びそれを用いたダイヤモンド基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7298832B2
,2023-06-27
[7]
ダイヤモンド基板及びその製造方法並びにセンサー[ja]
[P].
NOGUCHI HITOSHI
论文数:
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0
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0
机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
SHINETSU CHEMICAL CO
NOGUCHI HITOSHI
;
MAKINO TOSHIHARU
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0
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机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
SHINETSU CHEMICAL CO
MAKINO TOSHIHARU
;
OGURA MASAHIKO
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0
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0
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机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
SHINETSU CHEMICAL CO
OGURA MASAHIKO
;
KATO HIROMITSU
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机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
SHINETSU CHEMICAL CO
KATO HIROMITSU
;
HARUYAMA MORIYOSHI
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0
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0
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机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
SHINETSU CHEMICAL CO
HARUYAMA MORIYOSHI
;
KAJIYAMA KENICHI
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机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
SHINETSU CHEMICAL CO
KAJIYAMA KENICHI
;
KAINUMA YUTA
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机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
SHINETSU CHEMICAL CO
KAINUMA YUTA
;
HATANO YUJI
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机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
SHINETSU CHEMICAL CO
HATANO YUJI
;
IWASAKI TAKAYUKI
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0
机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
SHINETSU CHEMICAL CO
IWASAKI TAKAYUKI
;
HATANO MUTSUKO
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0
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机构:
SHINETSU CHEMICAL CO
SHINETSU CHEMICAL CO
HATANO MUTSUKO
.
日本专利
:JP2025076971A
,2025-05-16
[8]
下地基板及び単結晶ダイヤモンド積層基板並びにそれらの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025175289A
,2025-12-01
[9]
基板製造方法及び基板製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013008590A1
,2015-02-23
[10]
基板製造装置及び基板製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013015157A1
,2015-02-23
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