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ケイ素含有ポリマーおよびその合成方法、膜形成用組成物、ならびにシリカ系膜およびその形成方法[ja]
被引：0
申请号：
JP20080557078
申请日：
2008-01-31
公开(公告)号：
JPWO2008096656A1
公开(公告)日：
2010-05-20
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
C08G77/50
IPC分类号：
C09D183/00
C09D183/08
C09D183/14
C09D185/00
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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