共 50 条
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膜形成用材料、ならびにケイ素含有絶縁膜およびその形成方法[ja]
被引：0
申请号：
JP20080529866
申请日：
2007-08-14
公开(公告)号：
JPWO2008020592A1
公开(公告)日：
2010-01-07
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
C09D183/14
IPC分类号：
C08G77/04
C09D5/25
C23C16/42
H01L21/312
H01L21/768
H01L23/522
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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