絶縁膜用材料およびその成膜方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20070512950

申请日：

2006-04-06

公开(公告)号：

JPWO2006109686A1

公开(公告)日：

2008-11-13

发明(设计)人：

申请人：

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IPC主分类号：

H01L21/312

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共 50 条

[1]

絶縁膜材料、この絶縁膜材料を用いた成膜方法および絶縁膜[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010090038A1 ,2012-08-09

[2]

膜形成用材料、ならびにケイ素含有絶縁膜およびその形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008020592A1 ,2010-01-07

[3]

ポリマーの製造方法、ポリマー、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、および絶縁膜[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005068538A1 ,2007-12-27

[4]

ポリマーの製造方法、ポリマー、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、および絶縁膜[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005068539A1 ,2007-12-27

[5]

ケイ素含有膜形成用材料、ならびにケイ素含有絶縁膜およびその形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008099811A1 ,2010-05-27

[6]

成膜方法および成膜装置[ja] [P].

WATANABE YOSHIMASA ;

UMEZAWA KOTA ;

ISHII KATSUTOSHI .

日本专利 :JP2025066851A ,2025-04-24

[7]

成膜方法および成膜装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014024406A1 ,2016-07-25

[8]

成膜方法および成膜装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2003019645A1 ,2004-12-16

[9]

化学気相成長法用材料ならびにケイ素含有絶縁膜およびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009119583A1 ,2011-07-28

[10]

成膜装置及びその成膜方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005087973A1 ,2008-01-31

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