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成膜装置及びその成膜方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20060519416
申请日
:
2005-03-15
公开(公告)号
:
JPWO2005087973A1
公开(公告)日
:
2008-01-31
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
C23C14/00
C23C14/50
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
成膜装置及び成膜方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006098237A1
,2008-08-21
[2]
成膜方法及び成膜装置[ja]
[P].
KODAMA KAZUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ALPHASYSTEM KK
ALPHASYSTEM KK
KODAMA KAZUKI
;
UEDA DAISUKE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ALPHASYSTEM KK
ALPHASYSTEM KK
UEDA DAISUKE
.
日本专利
:JP2024172809A
,2024-12-12
[3]
成膜方法及び成膜装置[ja]
[P].
KONO YUMIKO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
KONO YUMIKO
;
SHINONOME SHUJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
SHINONOME SHUJI
.
日本专利
:JP2024065012A
,2024-05-14
[4]
成膜方法及び成膜装置[ja]
[P].
KODAMA KAZUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ALPHASYSTEM KK
ALPHASYSTEM KK
KODAMA KAZUKI
;
UEDA DAISUKE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ALPHASYSTEM KK
ALPHASYSTEM KK
UEDA DAISUKE
.
日本专利
:JP2024131444A
,2024-09-30
[5]
成膜方法及び成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2022135709A
,2022-09-15
[6]
成膜装置及び成膜方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008105365A1
,2010-06-03
[7]
成膜方法及び成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2025133137A
,2025-09-11
[8]
成膜方法及び成膜装置[ja]
[P].
FUJITA SHIGEKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
FUJITA SHIGEKI
.
日本专利
:JP2024106553A
,2024-08-08
[9]
成膜方法及び成膜装置[ja]
[P].
KONO YUMIKO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
KONO YUMIKO
;
SHINONOME SHUJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
SHINONOME SHUJI
.
日本专利
:JP2024064499A
,2024-05-14
[10]
成膜方法及び成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2023007137A
,2023-01-18
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