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薄膜形成方法および薄膜形成装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20060511370
申请日
:
2004-03-26
公开(公告)号
:
JPWO2005093122A1
公开(公告)日
:
2008-02-14
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
C23C14/24
C23C16/44
H01J37/34
H10N60/01
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
薄膜形成方法および薄膜形成装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005093123A1
,2008-02-14
[2]
薄膜形成装置および薄膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6218566B2
,2017-10-25
[3]
薄膜形成装置および薄膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7440954B2
,2024-02-29
[4]
薄膜形成装置および薄膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009072242A1
,2011-04-21
[5]
薄膜形成方法および薄膜形成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6017396B2
,2016-11-02
[6]
薄膜形成装置および薄膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009104382A1
,2011-06-16
[7]
薄膜形成装置および薄膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6376685B2
,2018-08-22
[8]
薄膜形成装置および薄膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010092758A1
,2012-08-16
[9]
薄膜形成装置および薄膜形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6506446B2
,2019-04-24
[10]
薄膜形成方法、および、薄膜形成装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6340332B2
,2018-06-06
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