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半導体装置およびその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20130532358
申请日
:
2011-09-07
公开(公告)号
:
JPWO2013035173A1
公开(公告)日
:
2015-03-23
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G01K7/02
IPC分类号
:
H10N10/851
H10N10/854
H10N19/00
H01L27/04
H01L29/739
H01L29/78
H10N10/01
H10N10/10
H10N10/17
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011121738A1
,2013-07-04
[2]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025162327A
,2025-10-27
[3]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010047118A1
,2012-03-22
[4]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
OZAWA KODAI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RENESAS ELECTRONICS CORP
RENESAS ELECTRONICS CORP
OZAWA KODAI
;
NAKANISHI SHO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RENESAS ELECTRONICS CORP
RENESAS ELECTRONICS CORP
NAKANISHI SHO
.
日本专利
:JP2023173191A
,2023-12-07
[5]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7513219B1
,2024-07-09
[6]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
YAMAGUCHI SUNAO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RENESAS ELECTRONICS CORP
RENESAS ELECTRONICS CORP
YAMAGUCHI SUNAO
.
日本专利
:JP2024151890A
,2024-10-25
[7]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
YAMAGUCHI SUNAO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
RENESAS ELECTRONICS CORP
RENESAS ELECTRONICS CORP
YAMAGUCHI SUNAO
.
日本专利
:JP2025105242A
,2025-07-10
[8]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016075791A1
,2017-08-24
[9]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025141560A
,2025-09-29
[10]
半導体装置およびその製造方法[ja]
[P].
KAMEOKA HIROSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
DENSO CORP
DENSO CORP
KAMEOKA HIROSHI
.
日本专利
:JP2024101286A
,2024-07-29
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